据《路透》报导，艾司摩尔 （ASML Holding）（ASML-US） 一名高层表示，该公司次世代芯片制造设备已准备好供制造商开始启动量产，对芯片产业而言是一大重要里程碑。
这家荷兰公司生产全球唯一商用的极紫外光微影 （EUV） 设备，为芯片制造商的关键核心设备。 ASML 数据显示，这款新设备将协助台积电 （2330-TW）（TSM-US） 与英特尔 （Intel）（INTC-US） 等芯片厂，透过简化多个昂贵且复杂的制程步骤，生产更强大且更高效的芯片。
ASML 技术长Marco Pieters周三向路透表示，公司计划在周四于圣荷西（San Jose）举行的技术会议上公布这些数据，象征一项关键里程碑。
开发这套昂贵的次世代设备历时多年，期间芯片制造商一直在评估何时开始导入量产在经济上才具合理性。
但随着现有世代EUV设备在制造复杂AI芯片方面逐渐逼近技术极限，次世代机台——称为High-NA EUV（高数值孔径极紫外光）设备——对AI产业至关重要，可协助提升如OpenAI的ChatGPT等聊天机器人的能力，也让芯片厂能按计划推出AI芯片，以满足快速飙升的需求。
这些新设备单价约4亿美元，是初代EUV机台的两倍。
Pieters 表示，ASML 数据显示，High-NA EUV 设备目前停机时间有限，已生产出 50 万片如餐盘大小的硅晶圆，并能绘制足够精细的图案以形成芯片电路。 这三项数据综合显示，设备已具备供制造商使用的成熟度。
他指出，「我认为现在正处于一个关键时机，可以检视已完成的学习循环量。」他所指的是客户对设备进行的测试次数。
尽管技术上已准备就绪，但企业仍需2至3年时间进行足够的测试与开发，才能将其整合至实际制造流程中。
Pieters 表示，「（芯片制造商） 已具备验证这些设备所需的全部知识。」
他也指出，目前设备的可用率约达80%，公司目标在年底前提升至90%。 ASML 即将公布的成像数据，足以说服客户以单一道 High-NA 制程，取代旧世代设备所需的多个步骤。 设备已处理的50万片晶圆，也让公司得以排除许多初期问题。
